国内光刻机

据专家介绍，国内光刻机90nm工艺技术与荷兰ASML 7nm工艺技术相比，至少有15年的差距。制造工艺的差距主要反映了中国与西方发达国家在精密制造领域的差距。

目前，光刻机市场几乎被荷兰的ASML、日本的尼康和佳能以及上海微电子所垄断。这个地区有三个梯队。荷兰ASML垄断了光刻机的高端市场份额，日本尼康和佳能处于中端市场，争夺低端市场，而上海微电子只有低端市场。

上海微电子成立于2002年。当它第一次来到荷兰ASML时，被嘲讽为“即使把所有的图纸和部件都给你，你也组装不起来”。上海微电子，通过自力更生，正好打了外企的脸。2007年，成功开发出90纳米制程工艺的光刻机。

世界上最先进的光刻机制造商是荷兰的ASML，只有荷兰的ASML能生产7纳米EUV。mainland China晶圆代工厂SMIC，大多使用ASML高端光刻机，已经量产14nm工艺芯片，突破N+1和N+2工艺，但后续高级工艺仍需要EUV光刻机。SMIC早在2018年就成功预订了EUV光刻机。但由于各种因素，至今未收到货。

差距在哪里？自2007年以来，上海微已成功开发90纳米工艺。13年过去了，上海微依然在量产光刻机中的90nm工艺。为什么？

上海微电子与荷兰ASML光刻机的差距，反映了中国与西方发达国家在精密制造领域的差距。对于一台顶级的光刻机来说，其关键部件90%来自不同的发达国家，比如美国的光源和测量设备，德国的镜头，瑞典的轴承，法国的阀门等等。根据所谓的瓦塞纳尔协议，这些顶级部件是禁止向中国出口的。

上海微电子是系统集成商，不生产关键元器件，所以生产22nm以下的高端光刻机不是它的责任。消息称，上海微电子已突破28nm制程工艺关键技术。但由于供应链的影响，量产时间尚未确定。

就目前情况来看，只能做好低端领域，慢慢培育国内供应链，逐步向高端光刻机领域发展。

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