光刻机工作原理 你知道吗
1.测量台、曝光台:它是一个承载硅片的工作台。
2.激光器:即光源，光刻机中的核心设备之一。
3.光束校正器:校正光束的入射方向，使激光束尽可能平行。
4.能量控制器:控制最终照射在硅片上的能量，曝光不足或曝光过度都会严重影响成像质量。
5.光束形状设置:将光束设置成不同的形状，如圆形和环形，不同的光束状态有不同的光学特性。
6.着色器:当不需要曝光时，它阻止光束照射硅片。
7.能量检测器:检测光束最终入射能量是否满足曝光要求，并反馈给能量控制器进行调整。
8.面具:一块刻有电路设计的玻璃板，价格高达数十万美元。
9.掩膜台:承载掩膜移动的设备，移动控制精度为nm。
10.物镜:物镜用于补偿光学误差，等比例缩小电路图。
1.硅晶片:由硅晶体制成的晶片。硅片有很多种尺寸。尺寸越大，产量越高。题外话，因为硅片是圆的，所以需要在硅片上切一个缺口来确认硅片的坐标系。根据槽口的形状，有两种，分别是平的和槽口的。
12.内部封闭框架和减震器:将工作台与外界环境隔离，保持水平，减少外界振动干扰，保持温度和压力稳定。
