光刻机主要用来干什么

1.光刻机是芯片制造的核心设备之一，根据用途可以分为几种类型:用于芯片生产的光刻机；有包装用的光刻机；在LED制造领域也有投影掩模对准器。

2.用于生产芯片的光刻机是中国半导体设备制造最大的短板。目前国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。

3.掩模光刻机，也称为掩模光刻机、曝光系统、光刻系统等。常用的掩模光刻机是掩模对准光刻，所以称为掩模对准系统。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗干燥、底涂、旋涂光刻胶、软烤、对准曝光、后烤、显影、硬烤、刻蚀等过程。光刻法是利用光来制作图案(工艺)；平整硅晶片表面，然后将掩模上的图案转移到光刻胶上，从而将器件或电路结构临时“复制”到硅晶片上的工艺。