没有可能是外星科技。如果是外星技术，就不会是现在的7nm技术，或者1nm技术，甚至更极端的技术。
大部分人不了解光刻机的发展，所以对光刻机的原理很困惑，这也成为了我们国家芯片发展的主要障碍。
先说一下光刻机的发展，让你明白光刻机是怎么来的。
1978年，英特尔做出了第一个CPU，命名为i8086，这是CPU使用的指令集，后来被命名为X86指令集。这是世界上第一个微处理器。英特尔之前的产品主要是内存。
1978年，美国GCA公司制造了第一台光刻机。工作节点为1.5μm(即1500nm)，经过多年发展，1999年逐渐发展到180nm。
这一时期使用的激光源都是长波长的。有436nm，和365nm，然后248nm的波长作为光刻机。
2001年以后，光刻机市场在193纳米光源上停滞了很多年。它不可能一直被打破，也没有办法在波长下降的同时保持能量不变。
所以经过20年的研究(1999年在光刻机研发出一流的UV技术)，终于在2013年成功，量产出货。如今EUV光刻已经到了5nm工艺阶段，7nm工艺已经非常成熟。
2.光刻机的原理是什么？他为什么不是外星科技？这其实是激光雕刻机！全球激光技术起步很早。用激光去除硅表面的保护膜时，蚀刻液会腐蚀保护膜较薄的部分。原理上就像用激光打标机，或者激光刀切割东西。但还是有区别的。
光刻的概念，最原始的应用，就是利用激光的高能量进行烧、割、刻。在应用芯片的制造中，不是直接光刻，而是曝光后蚀刻。有些类似于中国古人用腐蚀性液体在石碑上书写。
后来随着技术的缓慢发展，不断寻求更小的激光束来去除多晶硅表面的掩膜。相当于找了一把小一点的切肉刀来雕刻。
这个原理其实很好理解。
其实就相当于一块电路板，会被放大。根据光线条件，没有树荫的地方，会有光线投过去。通过一个透镜(物镜)，激光将投射到下面的晶片上。有激光照射的地方，表面的掩膜会被去除，蚀刻液会立刻被雕刻。
这个技术有多简单？怎么能说是外星科技呢？外星人都这么低级吗？
3.如果你知道，尼康，佳能和ASML都知道。这是人类的技术！自上世纪以来，尼康、佳能和ASML一直主导着光刻机市场。
随着光学技术的发展，整个光刻机市场也在不断发展。所以不存在外界所谓的技术。只是技术进步比较快，我们国家错过了一个比较好的时期。
4.中国很早就开始研发光刻机。1980年之前，中国其实很早就研发了光刻机。陈宫JKG-3型光刻机是上海光学机械厂于1978年研制的。那时，ASML还没有成立，佳能和尼康是光刻机的老大。那时候的中国和外国虽然有差距，但没有现在这么遥远。
进入1980年后，国内改革开放，大量国企重组，国家不像以前那样支持光刻机的发展，受到国际市场产品的冲击，所以当时国内国企成本较高。如果没有足够的下游芯片制造市场来购买光刻机，产品就会被淘汰。
可以说，中国曾经失落，我们可以留给今天绝地反击的牌。
