你知道光刻机是做什么用的吗？走在世界前列的中国电子RD品牌，却因为光刻机而“卡脖子”。为什么它的RD水平在世界上名列前茅，却无法攻克这项技术？真的有那么难吗？
光刻机是制造芯片需要的一种机器。它也被称为曝光机，或曝光系统或光刻系统。这是目前世界上制造的最精密的仪器之一。
发明光刻机的主要目的是将半导体制成芯片。它可以通过精密的纳米技术，按照设计图制作出结构极其复杂的芯片。
作为世界上最先进的技术之一，光刻技术在电子和计算机等现代高科技产业的发展中发挥着重要作用。
所以对于我们国家来说，尽快突破光刻技术，把这项技术牢牢掌握在自己手里，也可以保证我们国家芯片生产的安全，对我们国家科技安全具有重要的战略意义。
目前市场上用于生产半导体集成电路的掩模版光刻机是一种掩模版对准曝光机，其机器有一套精密的曝光系统，也可称为光刻系统。
目前芯片制造中常用的掩模版对准器是将掩模版与光刻对准，使硅片表面平整，然后将掩模版上的图形转移到光刻胶上，将器件或电路结构暂时“复制”到硅片上的过程。
值得一提的是，芯片的原材料是硅，所以芯片也叫硅片。
目前半导体集成电路的初步加工是将沙子中的硅元素加工成圆形的硅片，然后用光刻技术对硅片进行光刻，制成许多集成电路，最终成为我们日常生活中可以看到的芯片集成电路。
虽然从肉眼来看芯片并不难制造，但是有些芯片比较大。
但实际上一般的光刻工艺都要经历硅片表面清洗干燥、打底、旋涂光刻胶、软烤、硬烤等过程。光刻之后，需要组装和拼接集成电路。
就像一个巨大的城市，里面有很多部门，每个部门各司其职，最终让城市正常运转。集成电路也是如此，要靠极其复杂的内部运行结构才能让我们的电子器件正常工作。
可见，光刻机中的制造是非常技术性的，它的RD需要大量的时间、技术和资金投入。
随着近年来中国的快速发展，中国在科技领域，尤其是电子科技领域取得了越来越多的成就。越来越多的中国电子品牌走向海外，中国在光刻技术方面取得了一系列进展。
然而，在国人因为中国的芯片技术越来越高而欢呼雀跃的同时，有细心的人发现，国际市场上性能好的光刻机，大部分都是荷兰等发达国家制造的。
比如荷兰的 ASML光刻机就是目前世界上性能最好的光刻机之一，而光刻机的这个镜头技术就是来自德国。
而且日本的佳能、尼康等品牌也有先进的光刻技术，世界著名的半导体巨头英特尔也使用过日本的光刻技术。
因此，目前，光刻机的技术仍然掌握在西方发达国家手中。如果中国不小心，可能会被西方国家卡在光刻机里。
对准系统是光刻机中技术最先进的系统。
通过光刻机自带的曝光系统，紫外光源投射到硅片上。但是在这个过程中，如果要保证光刻的精度，就必须有效避免轴承机械摩擦带来的工艺误差。
目前美国和德国生产的光刻机是全气动轴承设计的专利技术。与美国和其他国家相比，目前我国在光刻机对准系统上还达不到和他们一样的标准。
另外，高精度对准系统的制造需要近乎完美的精密机械技术，这也是国产光刻机赶不上的技术难点之一。
要开发高精度的光刻机，需要掌握对准显微镜的技术。在光刻机工作过程中，通过这种对准显微镜，可以大大降低整个光刻过程中的误差。
这不仅实现了最大的准确性，还减少了不良品的产量。
然而，由于整个技术的发展是一个非常漫长和负责任的过程，直到今天，世界上只有少数几个国家能够掌握它。
虽然中国在高端芯片研发技术上取得了很大的突破，但是国产手机和国产电脑的性能越来越好，甚至在5G领域一度超过了一些西方电子产品。但由于光刻技术领域缺乏突破，国内很多优秀的芯片只能设计，无法自主制造。
在我们日常生活中使用的智能手机中，性能越好的，其使用的芯片技术含量越高。
目前，中国已经能够开发出7纳米芯片，这真是一个令人兴奋的消息。但中国的高端芯片还是要委托国外先进的半导体制造厂来制造。
在这个过程中，我们还需要向他们支付高额费用。
当然，虽然中国在光刻机的技术上还没有实现质的飞跃，但是相比其他发展中国家，中国生产的光刻机在一些基础的电子产品芯片上也可以大有作为。
相信在不久的将来，中国制造的电子产品将出口海外，光刻机技术将会有新的突破。
