近日，ASML蒙太奇中国区总裁沈波表示，该公司对向中国出口蒙太奇持开放态度。这是光刻机巨头向中国做出的又一姿态，可能是因为中国正在加速扩大芯片制造产能。
根据IC insights公布的2020年全球芯片制造产能排名数据显示，中国台湾省以21%的产能位居全球第一，韩国以20%的产能紧随其后，中国和日本均以15%的产能位居第三，美国以12.6%的产能位居第五。 不过，IC insights预计，今年中国的芯片制造能力将超过日本成为世界第三大国。目前，中国正处于芯片制造产能快速扩张期，预计到2025年全球芯片制造产能份额将提升至20%，与韩国争夺第二的位置。根据之前的统计，中国在建芯片工厂数量居全球之首，远超台湾省、韩国、日本和美国。中国急需扩大芯片制造产能，在于由于众所周知的原因，从2019年下半年开始积极推进芯片的自主研发。
中国是世界上最大的制造国，对芯片的需求巨大，每年购买芯片的金额高达3500多亿美元。芯片已经影响到中国制造的安全，所以中国大大扩充了芯片制造能力。面对中国这个巨大的市场，作为全球最大的光刻机企业，ASML无法忽视，所以一直在向中国示好。然而，由于众所周知的原因，EUV光刻机一直无法向中国销售，而DUV光刻机则不受限制。ASML自然希望在中国这个迅速扩张的市场上分一杯羹。
目前国际上汽车芯片比较短缺，所以对芯片制造技术要求不高。大部分汽车芯片仍在使用28nm及更落后的工艺，率先实现自给自足的比亚迪研发的IGBT芯片仍在使用90nm工艺。即便如此，比亚迪的IGBT芯片还是得到了外国汽车公司的认可，并希望被购买。中国快速扩张的芯片制造能力，其实并不是当前手机行业热衷的5nm甚至更先进的工艺能力，而是成熟的工艺。毕竟国内对芯片有各种各样的需求，这些芯片大多只需要成熟的工艺。这些芯片制造能力所需的掩模对准器也是ASML愿意出售的DUV掩模对准器。
ASML被迫示好的原因是中国的光刻机进步很快。上海微电子已经在生产28纳米光刻机，14纳米光刻机也在研发中。在蚀刻机方面，Micro Semiconductor开发了5nm工艺的蚀刻机，进展更快。正如ASML之前预期的那样，如果ASML被限制向中国提供光刻机，那么中国将能够在不久的将来开发出光刻机等先进的芯片制造设备，这让ASML深受威胁。面对中国这个巨大的市场，ASML当然希望分一杯羹，而中国芯片制造设备公司在光刻机及相关设备方面取得的进步让其感到威胁，所以一直对中国示好。然而，中国已经清楚地认识到，依赖ASML终究不会长久，独立是走得更远的唯一途径。
