中国什么时候能造出5nm的光刻机？真的有那么难吗？长见识。
光刻机现在是很多普通人都知道的“高级”名词，这个复杂的机器现在已经成为美国用来恶意制裁中国芯片的武器。我们知道这个世界上很多东西都是聚集全球力量向别人学习而成的，比如手机，光刻机。【/s2/】那么中国要想自主研发光刻机，需要多少年才能达到5nm的水平？我学到了很多东西
在说这个问题之前，我们还是要了解一下光刻机到底有多复杂。 现在世界上最顶级的设备无疑是ASML的5nm光刻机。这台机器如果一个一个拆的话，可以装进40个左右的集装箱。总数超过100万的零件绝对是机器领域的庞然大物。而且这十万个零件中，有很多精密仪器，顶级光源，超稳定轴承，量规。他们来自世界各个国家，包括日本、德国和美国。其中，美国实际上为光刻机提供了大量的基础零件，这也是他们如此强硬地要求芯片厂商禁止向华为出口产品的原因。 对于打破这个禁令最直接最有利的方法，很多人认为最简单的方法就是自己动手制作。但这并不容易。 在光刻机需要的所有零件中，有很多是中国无法制造的。一开始几乎不可能打通这些供应商的货源。毕竟，这些供应商不得不考虑向中国出售光刻机材料，他们可能会遭到美国的报复和攻击。如果能完善供应链，发展力所能及的技术，中国光刻机最先进的技术应该是28纳米左右。 28nm到5nm是一个巨大的差距。 这种差距不是单靠研究就能达到的。事实上，在理论基础上，我国一些相关实验室已经具备了2nm技术的理论基础和研究方向，但量产需要保证稳定性、良率和效率。这样做真的很难。 为了成功研究5纳米光刻机，仅美国就投入了50多个顶尖科研团队，历时20多年。欧洲国家、日本、韩国虽然投入没那么多，但是在正确的时间做了正确的事情。而我们国家的光刻机技术已经在190纳米左右停滞了20年。20多年足以改变很多情况。 所以毫不夸张，现在中国要自主生产可以稳定量产5 nm工艺芯片的光刻机。也许10年或20年后会有可能。毕竟现在这方面的技术处于封锁阶段，光源等核心部件在国内也是被禁止的。所以，有些人自己度过的时间和这个世界必然会有巨大的差距。
