26亿一台！ASML全新光刻机准备中：Intel提前锁定 冲击2nm工艺
对于芯片制造商来说，光刻机非常重要，ASML正在积极布局新技术。据外媒报道，截至2022年第一季度，ASML已出货136台EUV系统，约7000万片曝光晶圆被曝光。
根据官方的说法，新的EUV光刻机系统NXE:3600D将达到93%的可用性，这将使其更接近DUV光刻机(95%的可用性)。
资料显示，NXE:3600D系统以30mJ/cm的速度每小时可生产160片晶圆(wph)，比NXE:3400C高出18%。二是正在研发的NXE:3800E系统，初期将以30mJ/cm的速度提供195wph以上的容量，吞吐升级后将达到220wph。
根据介绍，NXE:3600E将在像差、重叠和吞吐量方面进行渐进式光学改进，而在0.33 NA的EUV光刻机领域，ASML路线图包括2025年左右推出吞吐量约为220wph的NXE:4000F。
对于0.55 NA的光刻机来说，需要更新的不仅仅是它的光刻机系统。同时，还需要在光掩模、光刻胶层压和图案转移工艺等方面齐头并进。，以使新设备的应用成为可能。
根据ASML在第一季度财务会议上披露的数据，公司的目标是在2022年出货55台EUV系统，到2025年实现(最多)90台工具的计划。ASML也承认，2025年90台可能会超过实际需求，但他们形容这是为了满足2030年1万亿美元半导体行业的需求而付出的巨大努力。
根据之前的声明，ASML正在研发一款价值4亿美元(约合26亿元人民币)的新型光刻机，以及一辆重达200多吨的双层巴士。原型机预计2023年上半年完成，2025年首次投入使用，2026年至2030年主要出货。
本机应该参考高NA EXE:5200(0.55NA)。英特尔是世界上第一家下订单的公司。所谓高NA就是高数值孔径，2nm以后的节点都得靠它。
