二百台。
光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间。
全世界只有中国、日本、荷兰可以制造光刻机，日本的代表企业是尼康、佳能，曾经的光刻机“王者”，后来被荷兰ASML反超后就一蹶不振了，而中国也可以制造光刻机，只是达不到顶尖光刻机的精细程度。
目前，荷兰ASML一家公司几乎垄断了全球的高端光刻机市场，主要是EUV光刻机，造价极高，暂时没有一家竞争企业可以与之匹敌，每年稳定向大客户供货。
光刻机的分类
光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动。
1、手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了。
2、半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐。
3、自动：指的是从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。
中国的光刻机之所以会走向落后，是因为经济发展因素、海外企业竞争力过强以及欧美国家对中国进行了技术封锁。
由于华为遭美国封杀之后，华为的芯片供应也出现了很多的问题，由于芯片的制造离不开光刻机，所以光刻机就成为了网友非常关注的东西，只不过令大家没有想到的是，中国曾在光刻机领域达到过世界先进水平。
一、经济发展的原因，导致中国在光刻机领域处于落后地位。虽然中国当时在光刻机领域拥有着不错的技术水平，但是大部分企业在光刻机领域都无法赚得收入和利润，这导致很多企业逐渐放弃了光刻机的生产和研发，正是由于很多企业不看好光刻机的生产，所以才导致中国在光刻机领域出现了大幅度落后的情况。
二、国外企业的技术优势，使得中国的光刻机处于落后位置。由于国外企业在光刻机领域，储备了大量的技术专利，这使得国外企业在进行光刻机生产研发时，总能够最大程度降低成本，由于国外生产的光刻机在价格上，远低于中国的国产光刻机，这使得很多芯片生产商都开始选择国外的光刻机，正是由于国外的光刻机生产企业展现出了极强的竞争力，这导致中国的光刻机领域受到了极大的冲击。
三、欧美国家对于中国的技术封锁，使得中国无法提升光刻机的技术。虽然中国曾在光刻机领域取得了不小的优势，但是如果一直无法和国际接轨的话，那么中国在光刻机领域，也不可能取得太大的进步，再加上欧美国家对中国在光刻机领域进行了强力的技术封锁，这导致中国无法在光刻机领域吸收国外的经验和技术，由于缺少国外技术的帮助，中国在光刻机领域逐渐走向了落后。
半导体产业最关键的一环并非设计芯片，而是制造芯片。
设计只是画蓝图，实现起来却无比困难，就好拿麒麟芯片为例，尽管华为能够设计出芯片，但缺失了代工环节，芯片也无法生产出来。
生产芯片最关键的一点就是光刻机，它是在硅晶片上雕刻集成电路的机器，光刻机的先进程度决定了晶体管的尺寸。想要在一块指甲大小的硅晶片上集成百亿级晶体管器件，难度是十分巨大的。
目前在全世界范围内，具备生产这类高端光刻机的厂商只有一家，就是荷兰巨头ASML公司，这家公司生产的光刻机，被外界称作全球科技企业的集体智慧，因为单独靠一家公司是根本无法做到的。
据了解，一台EUV光刻机的重量大概在180吨，光内部零件就多达8万余件，如果算上外部零件的话，能够装满40个标准集装箱，而且这些零部件都是极其复杂的，绝非几个螺丝那样简单。
一台ASML的EUV光刻机，有超过90%的技术都是来自各国最顶尖的技术，比如镜头是德国蔡司的，激光器是来自美国的，还有海力士、台积电、三星等公司的众多专利融为一体，所以称作人类集体智慧的产物也并不为过。
因此EUV光刻机的生产难度也非常高，产能十分有限。据悉到2020年底，ASML累计的EUV光刻机出货量仅有100台，这个数量确实让人觉得有些不可思议。
因为生产难度极高、体积巨大、零件众多等原因，EUV光刻机的价格也是相当的昂贵，一台光刻机的价格就高达148亿欧元，折合人民币约117亿。但即便如此，依然被三星、台积电等公司抢着买。
中国光刻机现在达到了22纳米。在上海微电子技术取得突破之前，我国国产的光刻机一直停留在只能制造90nm制程的芯片。
这次我国直接从90nm突破到了22nm也就意味着我国在光刻机制造的一些关键核心领域上已经实现了国产化。而自己掌握核心技术有多重要自然不言而喻，在突破关键领域以后，更高阶的光刻机的研发速度只会越来越快。国产光刻机突破封锁，成功研制22nm光刻机，中国芯正在逐渐崛起。
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