光刻机与华为的关系

光刻机与华为的关系,第1张

光刻机与华为的关系,可以从以下的几个方面大概地了解一下:

中国半导体产业链之所以不能生产高端芯片,主要原因是国内市场在制造光刻机方面的技术落后于人。这项关键技术被欧美等科技巨头长期垄断,而自从美国擅自修改了芯片规则后,华为等中企的自研芯片之路可谓是“举步维艰”。

尽管华为拥有海思这样芯片设计技术一流的团队,但是没有高端光刻机,华为海思芯片也造不出来。再加上台积电也跟随美国的脚步,不给华为代工麒麟系列芯片,从而导致华为手机业务一落千丈,至今都没有缓过来。

也正是因为如此,华为入局光刻机产业就成了大势所趋。可以说,如果华为真的研发出国产光刻机,那么中国芯片被“卡脖”的问题就能迎刃而解。

但是,正所谓“理想很丰满,现实却很骨感”,目前国内最高端的光刻机仅可达到90nm,很难满足智能手机、电脑等行业的需求。

虽然EUV光刻机可以生产7nm及以下制程的芯片,但是自主研发的难度也是相当大。要知道,EUV光刻机的零部件就多达10万个,需要全球5000多家供应商提供,甚至连ASML都曾嘲讽我们,就算把图纸给中国,我们也造不出先进的EUV光刻机。不可否认,制造高端光刻机并不是一件容易的事情,单凭一个华为也很难搞出来。

其实,早在2016年,华为就开始研发光刻机,而华为也不是孤军奋战,包括国望光学、科益虹源、华卓精科、上海微电子等国内顶尖芯片企业都在负重前行,并投入大量的资金和人才参与光刻机的技术研发。

此消息一出,就有国外媒体表示,华为这是要向欧美科技巨头的核心技术垄断正式“宣战”。要知道,EUV光刻机的关键核心技术掌握在荷兰ASML手中,而ASML又因生产线上采用了大量的美技术和设备,不得不听从老美的“建议”,禁止向中国市场出货先进的EUV光刻机,甚至连DUV光刻机的正常出货也遇到了“瓶颈”。

事实上,华为并不是只搞了光刻机,其正在全面出击攻克各种芯片难题。就比如华为还先后发布了芯片叠加技术和超导量子芯片专利,尤其是芯片叠加技术,可以通过叠加的方式,将两颗14nm芯片做成相当于7nm芯片性能的高端芯片。

不管怎么说,华为等中企的芯片之路还非常的漫长,我们和欧美等企业的科技实力仍然有不少的差距。但是国内一家家像华为这样的企业,燃起的星星之火,难道不值得期待吗?

华为造光刻机成功的几率有百分之八九十。根据查询公开相关信息得知,华为在研究基础架构,并且掌握了制定5G标准的话语权,同时华为还是唯一一家超越苹果的公司,特别是5G技术的领先,更是让华为在5G时代抢占先机。

光刻机没有那么容易研究出来,我估计华为是在明修栈道暗渡陈昌,很可能是在功关碳基芯片或是光芯片,如果成功了整个硅芯片行业都完蛋,美国再也不能在芯片上卡中国,我们还会反过来卡他们

多久才能造出光刻机,虽然最近华为对光刻机研发和生产进行了大规模的动作挖人,技术累积。但是不得不说的是,光刻机是一个综合性的领域,会需要比较多的高尖端的技术,同时发力才能够正常的去造出一台光刻机,就算是阿斯麦,自己生产一台光刻机,也是以年来计数的。他的技术成熟了,但是实际生产机器的时候,周七也是非常长久的。所以想通过自研来解决这个问题,可能短时间内并没有办法做到,更多的会是一种对未来的期许和技术的累积。

这个真不好说…以一公司之力对抗欧美,困难可想而知,但这条路也是被美国逼的,成功了,改变世界格局,失败了,那就丧失话语权,后果不好预料。看到这么多人对华为冷嘲热讽,都不知道这些人怎么想的。

首先要知道华为产业根本不涉及光刻机领域,所以从零开始进军光刻机行业基本不可能,最好的方案就是联合国内光刻机行业的一些龙头企业进行联合研发,以此来研发比较高端的光刻机。

就目前来讲高端光刻机领域完全被荷兰的ASML所垄断,7纳米euv光刻技术全球仅有阿斯麦尔掌握,所以Asml在光刻机领域可以说是领先全球。像日本尼康佳能等还有我国的上海微电子跟啊斯麦尔的差距还是很大。

其实之前的时候高端光刻机领域应该说是佳能尼康也有一席之位的,但是由于ASML特殊的商业模式导致全球高端光刻机市场都被ASML所占,这也直接导致佳能尼康退出了高端光刻机市场。

再来回到华为这边,华为的优势在于其5G技术以及芯片设计等,芯片设计和生产都是芯片制造中非常重要的一环,而芯片生产最重要的也就是光刻机,几个月前美国针对华为的制裁也是从芯片制造这个点扼制华为。所以说高端芯片制造还是我们的一大弱点,未来在高端产业的创新力我们还有很长的路要走。

你可以浏览华为公司官网上咨询一下,可能会得到准确的信息或答案。

我们都知道光刻机,它是用来制造半导体芯片的设备,没有光刻机,我们是无法制造出半导体芯片的。目前光刻机设备一直被国外荷兰的阿迈斯ASML公司所垄断,世界上最先进的半导体制程,基本上使用的都是阿迈斯的光刻机。在国内光刻机的发展还是比较缓慢的,特别是最先进的半导体制程,比如7纳米、4纳米,这些国内的光刻机是无法完成的。

华为是一家专注于自我生产、自我研发的企业,很多的芯片也开始慢慢进行自主设计和生产,特别是成立的海思半导体,已具备国际竞争的能力。受中美贸易战的影响,导致美国加大了对华为的限制力度,特别是在进口半导体芯片上。由于光 科技 的技术比较复杂,牵扯到的技术种类特别多,并不是一朝一夕就可以完成的,它和一个国家的工业基础是息息相关的,所以目前华为光刻机的进度还是比较缓慢的,如果说华为投入精力去搞的话,再加上国家的一些帮助,那么至少还需要十几年的时间才能研发出最先进的光刻机设备的。

所以对于华为研发光刻机设备,我们还是报以希望吧,希望未来十年之后能够有国产的光刻机出现,摆脱国外的限制,能够生产出我们属于自己的光刻机!加油吧,华为!

20年吧


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