光刻机怎么发明的

掩模光刻机，又称掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等。，是制造芯片的核心设备。它使用类似于照片印刷的技术，通过曝光将掩模上的精细图案印刷到硅片上。掩模对准器的类型可以分为接触曝光、接近曝光和投影曝光。

光刻机的工作原理是通过一系列光源能量和形状控制手段，使光束透过带有电路图的掩模，通过物镜补偿各种光学误差，将电路图按比例缩小后映射到硅片上。然后通过化学显影得到刻在硅片上的电路图。一般的光刻工艺要经过硅片表面清洗干燥、打底、旋涂光刻胶、软烤、对准曝光、后烤、显影、硬烤、激光刻蚀等工序。光刻机的制造和维护对光学和电子行业的基础要求很高，所以世界上只有少数厂家掌握。