在现在的各种各样的电子产品中，芯片可以说是最重要的零件，而光刻机就是芯片制造的核心设备之一。
按照用途可以分为好几种，用于生产芯片；用于封装；用于LED制造领域。
用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。
光刻机是制造芯片的必备设备。芯片是干什么用的？可能有人会嘲笑这个问题，说它太初级，太简单；是的，有些人可能不知道芯片的用途，但世界上几乎每个人都在使用芯片。这不是夸张，是事实！
芯片的用途：手机、高铁、汽车、电网、家用电器、医疗设备、各种自动化设备等。
芯片的功能：执行运算，处理各种任务，输出数据和指令。芯片这么厉害，怎么做出来的？使用的设备是本文介绍的重要机器——光刻机。
现在很多人说，当年造光刻机比造原子弹还难。是的，这绝对是真的。
现在信息发达；科技进步；先进的设备；有很多专业人士有高深的知识，却做不出光刻机。难度显而易见。
这里有个问题要说明一下：中国也能做芯片，但是质量和规格跟不上当今尖端技术的需求。
今天我们国家能生产16纳米规格的芯片，和国际先进水平差距很大。（有消息说中国已经能做出7 nm光刻机，但没有得到证实。）
荷兰ASML公司据说开发了1纳米芯片掩模对准器；台湾的TSMC和韩国的三星集团争相购买。
谁拥有了设备，谁就能生产出最先进的产品，谁就能占领世界高端芯片市场，就会有大把的钱可赚，都要抢着买。
据说这样一台光刻机设备要花30亿人民币。
世界上生产光刻机最权威、最领先、最有实力的企业是荷兰的ASLM公司。
这个公司不是一兵一卒，有美国和欧盟的大力支持。
光刻机的生产组件来自多个国家，有一万多个组件。
还有另外两家日本公司也生产它们：佳能和尼康。正如你所看到的，这两家公司是世界知名的公司，曾经生产照相机和录像机。但是技术落后于荷兰公司。
是氪（Kr）气体和氟的简写。
KrF光刻机是指使用波长248nm，由氪Kr气体和氟F气体产生的激光的半导体光刻机，尼康和佳能在光刻机领域也有着深厚的IP布局。
光刻机又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干，涂底，旋涂光刻胶，软等工序。
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