中国光刻机领先世界

国产最新光刻机（中国最先进的光刻机最新突破）

这两年，由于华为的制裁，芯片已经和自己的流量一起成为当下的词汇，牵动着14亿人的心。我们经常可以在网上看到一些外媒对中国芯片的看法“比较落后”。虽然这不是我们所看到的，但不可否认的是，国产芯片与发达国家存在一定差距。

目前最主流的芯片是硅基芯片。在制造硅基芯片时，必须先将沙粒熔化，然后才能提取出纯度为99.999%的硅片。经过集成电路图的设计、光刻、刻蚀、等离子体注入、封装等一系列复杂工艺后，可以应用于各种电子器件。

在当今的半导体领域，美国、日本、韩国和欧洲垄断了核心技术、设备和化学材料。比如美国手握EDA工业软件，韩国手握先进的芯片制造技术，日本垄断光刻胶，欧洲手握光刻机制造。

这些国家为了遏制中国的科技发展，几十年前就签署了瓦森纳协议，禁止向中国出口核心关键技术。这也是中国企业即使拥有极其先进的芯片设计能力和芯片制造工艺，也无法自己制造高端芯片的原因。

国产光刻机再获突破

为了打破困局，我国企业和科研人员彻底抛弃了“买不如买，租不如买”的思想，坚定地走上了自研之路，全力研发国产光刻机，旨在打破西方国家的技术封锁，实现芯片自由。

2019年9月16日，中国科学院正式宣布，根据“卡脖子名单”组建相应的科研团队，特别是光刻机研究团队，并立下军令状，力争在最短时间内突破EUV光刻技术，制造出国产EUV光刻机。

然而，出乎所有人意料的是，中国科学家再次上演“中国速度”，突破了EUV光刻的关键技术。

近日，据央视报道，由中科院高能物理研究所承建的国内首台高能同步辐射光源科研设备开始安装，安装完成率已达70%。此外，中科柯美研发的线性劳厄透镜镀膜装置和纳米聚焦镜镀膜装置已交付上海微电子。

想必了解光刻机的朋友都知道EUV光刻机由双工作台、光源、光学镜头三个核心部件组成。之前，清华大学攻克了EUV光源技术，中科院攻克了双工作台。目前国内只有光学镜片未能攻克。值得一提的是，世界上只有蔡司能够为EUV光刻机生产光学镜片。

如今，随着国内第一台高能同步辐射光源科研设备的安装和透镜镀膜装置的投入使用，国内企业在光刻机透镜上的压力得到了一定程度的缓解。

大家一定知道，中国科学家攻克EUV光刻机三大核心技术，对于“中国芯”的发展意味着什么。

美国院士：中国学者不睡觉吗

不到一年时间，中国掌握了光刻机三大核心技术，瞬间震惊全世界，向中国科学家致敬。

其实早在去年中国攻克量子芯片关键技术的时候，美国科学院院士马兰·斯库利教授就曾在参观中科大时调侃道:中国学者在短时间内攻克了这么多未来核心技术，真的很可怕。你们都不睡觉吗？

对此，我想说的是不是中国科学家不睡觉，而是被老美逼得太狠，要发挥聪明才智，在最短的时间内克服技术壁垒，实现技术自由。

曾经，我经常听到一句话“没有时间是安静的，但有人在为你负重前行。”当时我也不太懂，但觉得很优雅。现在我终于明白了它的真谛:大家都在为中国的强大尽自己最大的努力，中国人民没有被别人欺负，都在自己的岗位上默默奉献。