2020年将是中国半导体行业艰难的一年。因为美国一纸禁令，必须使用华为EUV光刻机的5nm芯片，麒麟9000无法生产，让很多人愤怒又无奈。
可以说每一个关心中国科技发展的小伙伴都在问，我们的国产光刻机什么时候能出来，我们自己的光刻机什么时候能为华为加工高端芯片？今天就来聊聊这个话题，对国产光刻机做个小盘点，梳理一下国产光刻机的发展现状。
今天，我们将以问答的形式进行，具体如下:
是的，制造商是上海微电子。
在上海微电子官网可以看到，2018年3月，上海微电子90nm光刻机项目通过正式验收。也就是说，目前我们国产的光刻机已经可以做到90nm工艺。
此前有网友爆料称，上海微电子将于2020年12月推出首款采用ArF光源的SSA800/10W掩模版光刻机。它是一款国产浸没式DUV光刻机，可以实现28纳米节点的单次曝光。所以这个说法一直在网上流传。但是，对于这个消息，有人说是真的，有人说是假的。很混乱。
为此，我专门做了核实。所以在求证的过程中，我发现了这样一条信息，或许可以说明一些情况。
这是江苏省开发区协会发表的一篇文章，标题是:易科宏远集成电路光刻光源制造与服务基地项目启动。文中提到，到2020年，产品将与整机单元一起完成28nm国产光刻机的集成。
换句话说，易科宏远的准分子激光器将与上海微电子的光刻机匹配，计划中的光刻机可以实现28纳米工艺。
因为分销渠道的性质，我们基本可以确定，能实现28nm工艺的国产光刻机确实有自己的事情，原计划是2020年下线。
然而，由于一些未知的原因，这篇文章被官方网站删除了。但是，在田燕charikeyhongyuan的相关页面中可以看到，系统捕获了保留的信息。
另外，现在是2021年。28纳米光刻机是否按计划完成？我们在上海微电子官网或者其他官网都没有找到相关信息。
还有两份报告:
一个是方正证券去年发布的相关信息例子。显示国家02专用光刻机项目二期将于2020年12月接受上海微电子设计集成的193nm ArF浸没式DUV光刻机。
第二，知名媒体DIGITIMES曾报道，上海微电子预计2021年第四季度交付第二代深紫外(DUV)光刻机，可实现28 nm工艺。
所以，基本上是可以做到的。上海微电子确实在做可以实现28 nm工艺的国产DUV光刻机。能否通过验收，何时交付，都是未知数。
28 nm将是我们国产光刻机的最高技术水平。严格来说，这真的不算高水平。它前面还有14，7，5，3，2甚至1nm。
但28nm是成熟技术，生产成本低。只要不追求极致的性能，这种工艺的芯片性能也是够用的，生产我们日常生活中的电子设备是没有问题的，比如电视机、电视盒子、音响、电梯、空调谐器、微波炉、冰箱、汽车等等。
或者你可以这样理解。在小型设备中，需要制造工艺较低的芯片，比如手机。因为空空间有限，要实现更好的性能，芯片需要更先进的生产工艺。
此外，根据研究机构IC Insights发布的《全球晶圆生产率2020-2024》报告预测，到2024年，半导体制造工艺的格局将分为三部分:10nm以下工艺、10-20nm以上工艺和20nm以上工艺，各自的市场份额约为1/3，而28nm以上成熟工艺的市场份额在未来四年内将保持不变，仍会有较大的市场。
所以没必要一味追求制造工艺。
最后，我必须告诉你，我的国产光刻机是最好的。为什么？因为全世界只有中国能做到纯国产光刻机。即使是光刻机巨头荷兰的ASML，其产品也融合了许多国家的尖端技术。一旦有一天，由于种种原因，荷兰的一些技术被限制，那么它的光刻机很可能会停产。因为每项技术都是世界顶尖的，可替代性微乎其微。即使找到替代技术，也可能严重影响光刻机的生产和后续的芯片制造。
反观我们国产的光刻机，所有技术都是自主研发，上海微电子负责整体集成:
超光栅山系统来自中科院上海光机所物镜组，来自光源，来自宏远浸没系统，来自浙江机电双工作台，来自华卓精科。
所以即使世界上出现了问题，比如现在的疫情，甚至战争，也不会对我们有什么影响。当然，这需要我们有完整的国产半导体产业链。
总之，国产光刻机在路上，虽然离世界顶尖技术还很远，但我们已经在奋力追赶了。随着我国科技人才的持续井喷，国家战略方向的支持，企业研发力度的加大，全国人民的大力支持，胜利之日永远不会遥远。未来全球半导体的格局会改变，迁移到中国也不是不可能，因为既有光刻机产品，也有光刻机市场，因为中国是全球半导体最大的需求方，谁也替代不了。
