先进工艺过剩 : 台积电计划关闭部分 EUV 光刻机
研究机构9月2日报道，日前，来自产业链的消息人士、手机芯片专家称，TSMC计划从年底开始关停部分EUV设备，以节省EUV设备的巨额功耗，因为先进工艺产能利用率开始下降，评估后下降时间将持续一段时间。
目前，TSMC拥有约80台EUV光刻机，主要用于7纳米、5纳米及以下的先进工艺。今年9月，将进行3nm工艺的量产，所有这些都需要EUV光刻机。但随着PC、手机、显卡等产品需求的下降，先进工艺生产的芯片势必会受到影响。
今年苹果iPhone 14 Pro系列的A16处理器不急着用3nm工艺，还在用4nm工艺。另外，因为3nm能效问题，苹果已经取消了原定的3nm芯片生产计划。与之前的DUV光刻机相比，EUV光刻机需要使用高能激光，光线会多次折射，损耗很大。早期效率仅为0.02%。现在量产可以做到2%的效率，但也意味着会消耗掉大部分的电力。EUV光刻机的生产每天需要约30，000千瓦时，每年消耗约1，000万千瓦时。
