什么是EUV光刻机

什么是EUV光刻机,第1张

长春光机所EUV光刻机此次进展是国产光刻机光源的突破性进展,技术水平领先世界。

众所周知,EUV光刻机是目前制造高端芯片所需要的最关键设备,只有荷兰的ASML公司能生产,这也是我国科技方面卡脖子的关键技术之一。

我国目标是要在2025年实现芯片自给率70%,要想实现这个目标,在高端EUV光刻机上实现突破是关键。

长春光机所EUV光刻机此次进展无疑给高端EUV光刻机的研究工作打了一剂强心针。

长春光机所科研成果:

2015年,研究所研制出中国第一台红宝石激光器、第一台大型**经纬仪等多种先进设备仪器,创造了十几项“中国第一”。

先后参与了包括“两弹一星”、“载人航天工程”等多项国家重大工程项目,先后组建和援建了西安光机所、上海光机所、成都光电所、长春光机学院等10余家科研机构、大专院校和企业单位。

完成了一批国家重大任务,取得了以“神舟五号”、“神舟六号”有效载荷等为代表的一批重大科研成果。

成为中国航天光学遥感与测绘设备、机载光电平台及新一代航空遥感设备和靶场大型光测装备的主要研究、生产基地,在光电对抗、地基空间探测等领域具有影响力。

2016年11月11日,由中国科学院长春光学精密机械与物理研究所承担的国家重大科研装备研制项目“大型高精度衍射光栅刻划系统的研制”通过验收,并制造出世界最大面积中阶梯光栅。

这标志着我国大面积高精度光栅制造中的相关技术达到国际领先水平。

不仅打破了我国在该领域受制于人的局面,而且能帮助我国光谱仪器产业改变低端化现状,提升拓展国际市场的能力。

光刻机是制造集成电路中非常重要的设备,特别是现在市面上大部分的芯片都是属于电子芯片,当电子芯片的工艺小于一定的尺寸的时候,就必须依靠光刻机在制作芯片,也就是说如果没有光刻机就没有办法制造出顶级的芯片,比如市面上7nm芯片、5nm芯片等都不可能造出。而芯片在生活中是非常重要的,比如电脑、手机等电子产品都少不了。

光刻机的制造难度

光刻机制造难度之大可以用荷兰ASML公司的一句话来表示,对方表示就算把光刻机的图纸拿出来,我们也制造不出光刻机。且不说对方是不是小看了中国制造,从侧面也反映出了光刻机的制作难度之大。因为现在还没有一个国家可以独立的制造出顶级的光刻机,就算是现在行业领先的ASML公司制造出来的光刻机,也是集合了十几个国家的顶尖技术。

一台小小的光刻机上面就有十几万的小零件,而且为了让光刻机可以领先,所有的零部件都是采用了全世界最领先的技术,所以说光刻机从插头、配件等都是选用了其他国家的顶尖技术,这相当于全世界的技术融合在一起才可以制造出顶级的光刻机,而且ASML公司背后有台积电、三星以及英特尔这样顶尖的企业投资支持,也是花了几十年的时间才有今天的成绩。

ASML光刻机

荷兰的ASML光刻机基本上都是供不应求,中国也一直想要购买,但是现在还没有收到货。ASML的光刻机基本上都是内部消化了,毕竟台积电、三星以及英特尔本来就是芯片大户,台积电能够在芯片代工领域有今天的成绩,跟手上有这么多的光刻机也有很大的关系。

我们日常使用的手机里面的芯片就是光刻机制造出来的,光刻机是芯片制造过程当中一个重要的环节,光刻机直接决定着芯片的质量。而我国作为全球最大的芯片消费国之一,光每年进口的芯片都高达几万亿人民币。

光刻机是芯片制造过程中最重要的一部分,就是我们把想要设计的芯片,用光学技术刻在晶圆上,用光学技术把各种各样形式的电路通过光刻胶把电路印制在基板上, 然后再进行下一步的刻蚀过程 。通过光刻胶印制的电路可以使阳文形式的电路,也可以是阴文形式的电路。

光刻机目前一直处于垄断地位,在光刻机领域,最有名的就要提到ASML公司了,它是一家荷兰的公司。最初光刻机领域比较厉害的两个国家是荷兰和日本,而在2017年之后,ASML联合台积电推出了光源浸没式系统开始,将日本企业甩开距离,从此稳坐头把交椅的宝座。技术一直处于垄断地位。

一台顶级的光刻机需要各种顶级的零件支持,而这些零件大部分都来自西方的国家。而这些基本上都是禁止对我们国家出口,因此我国光刻机技术受到限制。前段事件美国制裁华为,不允许世界上任何一个国家给华为提供技术,华为虽然可以设计芯片,但是设计芯片的高端软件还主要依赖于海外。

我们中国现如今可以量产的光刻机才发展到90nm,距离国际水平我们还是有很长的路要走的。但相信在不久的将来,我们国家也能研制出属于我们自己的光刻机。到那个时候我们就不需要受到外国人的制裁了,因为我们就能制造出芯片供我们的国民使用。

是氪(Kr)气体和氟的简写。

KrF光刻机是指使用波长248nm,由氪Kr气体和氟F气体产生的激光的半导体光刻机,尼康和佳能在光刻机领域也有着深厚的IP布局。

光刻机又名掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干,涂底,旋涂光刻胶,软等工序。

光刻机,是现代光学工业之花,是半导体行业中的核心技术。可能有很多人都无法切身理解光刻机的重要地位。光刻机,是制造芯片的机器。要是没有了光刻机,我们就没有办法造出芯片,自然也就不会有我们现在的手机、电脑了。

光刻机是用于芯片制造的核心设备,按照用途可以分为用于生产芯片的光刻机、用于封装的光刻机和用于LED制造领域的投影光刻机。

目前,在全世界范围内,有能力生产光刻机的企业只有寥寥可数的几家,其中的霸主是一家叫做ASML的荷兰公司。ASML是一家市值大约在900亿美元,有着一万六千名员工的公司。在这一万六千人中,研发人员占比超过百分之三十六, 也就是说有超过六千人是研发人员。正是这一万六千人,帮助ASML研发出了世界上最顶尖的光刻机——EUV光刻机。

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