中国制造的光刻机能达到几纳米

光刻机中国能做到几纳米（国产光刻机突破22纳米差距还很大）

国产芯中国“芯”！如果华为在通信科技领域的异军突起没有直接威胁到西方发达国家的核心利益，美国也不会如此丧心病狂地用一个国家的实力来对付一个企业。当然，我们老百姓也不会关注芯片，芯片本来就是属于科技领域的。如今，在中国的大街小巷和餐厅里，有两个最热门的话题:“华为5G”和“芯片”。

人们不仅惊讶于中国的科技水平居然达到了这种程度，也在担心中国何时能突破高端芯片的技术封锁。毕竟我们很多人都知道，我们错过了第一次和第二次工业革命之后，我们的国家落后了两百多年，所以大家都知道下一次工业革命的重要性。恰巧华为在5G上的全球领先让我们看到，中国不仅可以赶上第四次工业革命，甚至可以在很大程度上引领它。每个人都很兴奋。

但目前我们不得不认识到中国在半导体集成电路方面仍然落后于西方发达国家和企业。在这个节骨眼上，偏偏美国开始歇斯底里地打击中国科技企业，企图拖慢中国整个半导体领域的发展进程。所以，我们很着急。中国何时能突破芯片的技术封锁？

当然，担心解决不了任何问题。如果担心有用，那些研究人员和科学家在干什么？一方面，我们在着急的同时，也不得不清醒地认识到，即使在西方国家联手封杀我们芯片技术的背景下，我们自己的科技企业还是取得了突破性的研究成果。

比如中国现有的举世闻名的北斗全球定位导航卫星，其中的三号芯片已经成功突破了22nm的上限，上海微电子加班加点研制出了在当前背景下能够产生22nm 的掩模版对准器。这个消息让全国的科技界都很兴奋。

光刻机国内突破22纳米，差距还是很大的。为什么研究人员如此兴奋？

不明所以的部分网友很好奇。现在全球最顶级的芯片是5nm制程工艺，连3nm制程也已经在研发中。为什么我们刚到22nm国内科研人员就这么兴奋？原因其实很简单。比如在你极度饥饿的时候，别说给你一桌美食，就是给你一个淡而无味的白面馒头，你也能吃的津津有味！

在上海微电子技术取得突破之前，我国国产光刻机还停留在只制造90nm芯片的阶段。这次中国从90nm直接突破到22nm，意味着光刻机制造的一些关键核心领域已经国产化。掌握核心技术的重要性不言而喻。突破关键区域后，高阶光刻机的RD速度只会越来越快。国产光刻机突破封锁，成功研发22nm光刻机，中国芯逐渐崛起。

与此同时，西方发达国家硅基芯片的制造已经接近物理极限，“摩尔定律”正在逐渐失效，中国的芯片技术也在不断突破。在这种权衡下，我们国家的芯片制造能力赶上世界领先水平只是时间问题。更何况我们国家也在同步研究更有竞争力的“/s2/]碳基芯片”[S2/]。一旦研制成功，我们甚至不再需要依赖光刻机，那么西方国家的封锁措施也将土崩瓦解。

所以，我们不能只是焦虑。我们还是要对中国芯片领域的发展充满信心。